Plaque chauffante en nitrure de bore pyrolytique/PBN

Plaque chauffante PBN

La CVD est une technologie souple qui peut permettre à beaucoup de différentes formes libres d'être fabriquée, aussi bien que des enduits sur une série de différents matériaux de substrat.

Les produits de PBN sont bien adaptés pour l'usage dans l'épitaxie de faisceau de Moleculaar (MBE), la déposition en phase vapeur organique en métal (MOCVD), la cristallogénèse du cristal et d'autres applications, où la stabilité de grande pureté et de produit chimique sont exigées. La conductivité anisotrope de PBN améliore l'exécution de processus pour la cristallogénèse du cristal, si la méthode de croissance est Czochralski encapsulé par liquide (LEC) ou gel vertical de gradient (VGF).

Des éléments plats et tubulaires de réchauffeur peuvent être produits en déposant une couche de conduite de graphite pyrolytique (PAGE) sur un substrat isolant de PBN. Une voie peut alors être usinée dans la couche de PAGE qui peut alors être protégée par une couche de pardessus de PBN. Ces réchauffeurs ont une réponse très rapide et un bas Massachusetts de courant ascendant. Ils approprié idéalement à l'utilisation dans le vide ultra poussé, ou aux environnements chimiques corrosifs.

Les propriétés de PBN, sa pureté intrinsèque, la force mécanique supérieure et la stabilité thermique lui font un choix superbe pour le four à hautes températures et les composants électriques, les composants de micro-onde et de semi-conducteur, et les creusets stadardized par industrie pour la production de cristal d'arséniure de gallium.