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Alimentation haute tension Wisman utilisée pour la lithographie par faisceau d'électrons

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Spécification de l'application

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La lithographie par faisceau d'électrons est l'utilisation d'équipements de traitement par faisceau d'électrons et de la technologie de microscopie électronique à balayage pour produire des masques de semi-conducteurs destinés à la production de circuits intégrés de grande dimension. La lithographie par faisceau d'électrons est également connue sous le nom de lithographie par faisceau d'électrons (EB lithographie) ou EBL. Un masque, également appelé masque, agit comme un film photographique en tant que substrat pour transférer le schéma de circuit d'un composant électronique sur une puce ou un autre objet à transférer.

Dans la lithographie par faisceau d'électrons, un faisceau d'électrons (faisceau E) émis par un canon à électrons est focalisé par une lentille électronique en un très petit point lumineux. En contrôlant le mouvement du faisceau d'électrons convergents et le mouvement de la platine en fonction du motif de lithographie, le matériau lithographique est électrolithographié. Le contrôle du faisceau d'électrons et de la platine est basé sur l'équipement de traitement par faisceau d'électrons et la technologie de microscopie électronique à balayage.

Le canon à électrons et la lentille à électrons nécessaires à l'équipement de lithographie par faisceau d'électrons requièrent une alimentation électrique de haute précision et de haute tension pour fonctionner.

La série d'alimentations haute tension 3D de Wisman est spécialement conçue pour alimenter les lentilles électroniques des canons à électrons et des appareils de lithographie par faisceau d'électrons. Ces alimentations haute tension peuvent également être personnalisées pour répondre aux besoins des clients.

Wisman propose une gamme d'alimentations pour la lithographie par faisceau d'électrons. Exemple : 3D ; 3DA ; EM ; SEM.