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Quantum X : Nanoscribe lance le premier système de lithographie en niveaux de gris à deux photons

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Nanoscribe, spécialiste de l'impression 3D micrométrique, a présenté son nouveau système Nanoscribe Quantum X, le premier système de lithographie en niveaux de gris à deux photons du monde. La nouvelle technologie de fabrication d'additifs, lancée au salon LASER World of Photonics à Munich, est conçue pour la lithographie sans masque de composants microoptiques de haute précision.

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Le système compact Nanoscribe Quantum X est décrit comme le premier système industriel basé sur la technologie de lithographie en niveaux de gris à deux photons (2GL) en instance de brevet de la société. Ce procédé unique combine la haute performance de la lithographie en niveaux de gris avec la précision et la flexibilité de la technique de polymérisation à deux photons de Nanoscribe, pour obtenir un système capable d'une lithographie sans masque rentable, flexible et précise.

Le système récemment dévoilé a été développé pour répondre à la demande croissante dans les secteurs des capteurs, des appareils mobiles, des données et des télécommunications et est adapté à un large éventail d'applications. Notamment, le Nanoscribe Quantum X est capable de produire des prototypes de microoptiques réfractives et diffractives ainsi que des masters polymères.

2GL

Nanoscribe a équipé son nouveau système Quantum X d'un certain nombre de caractéristiques qui permettent une microfabrication rapide de forme libre. Ces caractéristiques comprennent un facteur de forme industriel avec des interfaces de contrôle de processus prêtes à l'emploi, trois caméras de surveillance en direct pour le contrôle de processus et un distributeur de résine. Le système intègre également la reconnaissance automatique des objectifs et des porte-échantillons pour des changements de matériel rapides.

Le procédé 2GL offre également des capacités de contournage de haute qualité grâce à son contrôle précis de la taille du voxel. Cette caractéristique permet d'obtenir des composants de haute précision avec une grande précision de forme et des surfaces ultra lisses. Le contrôle de la taille du voxel est lui-même activé par une modulation de puissance laser synchronisée et un positionnement dynamique de la mise au point.

"Quantum X produit des formes optiques simples et complexes avec des hauteurs de caractéristiques variables dans chaque champ de balayage ", ajoute Nanoscribe. "Des étapes discrètes et précises, ainsi que des topographies essentiellement quasi-continues, peuvent être imprimées en une seule étape sans avoir besoin de plusieurs étapes de lithographie ou de fabrication de masques multiples."

Micro-optique réfractive et diffractive

Le nouveau système Quantum X de Nanoscribe est particulièrement bien adapté à la production d'éléments optiques diffractifs multiniveaux (DOE) grâce à la possibilité de moduler la puissance laser de l'imprimante sur un seul plan de balayage. Cette approche permet également de débloquer des temps d'impression plus rapides pour la microfabrication multicouche.

Les micro-optiques réfractives bénéficient des capacités de contournage du procédé 2GL, qui permettent la production d'éléments optiques uniques, de réseaux avec des facteurs de remplissage élevés allant jusqu'à 100% et de différentes formes de lentilles. Comme le dit Nanoscribe : "Quantum X fabrique presque toutes les formes 2.5D imaginables à l'échelle microscopique, quelque chose d'inconcevable auparavant, ouvrant la voie à des éléments optiques nouveaux ou fortement améliorés, de l'imagerie à l'illumination en passant par la détection"

Logiciel Quantum X

Le nouveau système Quantum X est supporté par une plate-forme logicielle dédiée qui contrôle et surveille les travaux d'impression en temps réel. Les utilisateurs bénéficieront également d'un panneau de commande à écran tactile intuitif et interactif, qui leur permet d'ajuster facilement le contrôle du processus et de visualiser les travaux d'impression en temps réel.

Le logiciel est également doté d'un assistant qui guide les concepteurs et les ingénieurs tout au long du processus d'impression pour simplifier et optimiser la préparation de l'impression. Le logiciel Quantum X accepte les images en niveaux de gris de conceptions optiques arbitraires dans un certain nombre de formats de fichiers, notamment BMP, PNG ou TIFF jusqu'à une résolution de 32 bits.